자외선 평행광 조사 시스템
제품 개요
분류
반도체
제품명(한글)
자외선 평행광 조사 시스템
제품명(영문)
Mask Aligner System&Exposure System
제품번호
FMS-S5-PCTK24B11
설명
Mask aligner system&Exposure system은 학습자가 웨이퍼 위에 패턴을 형성하는 포토 공정에 대한 종합적인 운용실습(장비운용, 공정수행)을 통해 반도체 제조공정 운용 및 개선 기술을 종합적으로 학습할 수 있다.
제품 구성요소
| 분류 | 품명 | 수량 | 비고 |
|---|
| 1 | Mask Aligner System | 1 | |
| 2 | Exposure System | 1 |
제품 특징
내용
Dimension : 1000mm(w) * 950mm(D) * 850mm(H)
Wafer Size : 6`` 이하
원활한 교육훈련 운영을 위한 교육콘텐츠 포함
주요 키워드
반도체웨이퍼유브이포토공정패턴제조공정